機加工金屬表麵改性技術的電鍍噴塗沉積簡介（jiè）

一

電鍍（dù）的定義（yì）和原理

電鍍是一種利用電化學性質在被鍍零件表麵沉積所需金屬鍍層的表（biǎo）麵（miàn）處理技術。

電鍍原理:在含有被鍍金屬的鹽溶（róng）液中，被鍍基底金屬作為陰（yīn）極，鍍液中被鍍金屬的（de）陽離子通過電解沉（chén）積在基底金（jīn）屬表麵，從而形成鍍層。如圖13所示。

電鍍的目（mù）的是獲得不同於基材的具有（yǒu）特殊（shū）性能的表層，以提高表麵的（de）耐蝕性和耐磨性（xìng）。

塗層的厚度通常為（wéi）幾微米到幾十微米。

電鍍的特點:電（diàn）鍍工藝設（shè）備簡單，操作（zuò）條件容易控製，鍍層（céng）材料（liào）廣泛，成本低（dī）廉，因此（cǐ）在工業上應用（yòng）廣（guǎng）泛，是材料表麵（miàn）處（chù）理的（de）重要方法。

塗料的分類

塗料有很多種（zhǒng），根據其性（xìng）能可分為（wéi）以下幾類:

(1)防護塗層:如鋅、鋅鎳、鎳、鎘、錫等塗層，用作（zuò）抗大氣和（hé）各（gè）種腐蝕環境（jìng）的防腐塗層。

(2)保護性-裝飾（shì）性塗層:如Cu-Ni-Cr塗（tú）層，兼具裝飾性和保護性。

(3)裝飾性鍍層:如金和銅鋅仿金鍍層、黑鉻鍍（dù）層（céng）、黑鎳鍍層等。

(4)耐磨減磨塗層:如硬鉻塗層、多孔（kǒng）塗層（céng）、Ni-Sic塗層、Ni-石墨塗層、Ni-PTFE複合塗層等。

(5)電塗層:如（rú）金塗層、銀塗層等。，不僅導電率高（gāo），還能防止氧化，避免接觸電阻增（zēng）加。

(6)磁性塗層:如軟磁塗層包（bāo）括Ni-Fe塗層和Fe-Co塗層；磁（cí）性包括鈷-磷鍍層（céng）、鈷-鎳鍍層、鈷-鎳-磷鍍層等。

(7)可焊性塗層:如Sn-Pb塗層、Cu塗層（céng）、Sn塗層、Ag塗層等。提高可焊性（xìng），廣泛應用於電子行業（yè）。

(8)耐熱塗層（céng）:如鎳鎢塗層、鎳塗層、鉻塗層（céng）等。，熔點高，耐（nài）高溫。

(9)塗（tú）層修複:對一些成本較高的易磨損零件或超差零（líng）件進行電鍍修複（fù），可節約成本，延（yán）長使用壽命。例（lì）如Ni、Cr、Fe層可以被（bèi）電鍍用於（yú）修複。

根據塗層與基體（tǐ）金屬之間的電化學性質，可分為陽極塗層和陰極（jí）塗（tú）層。當塗層相對於母材（cái）的（de）電位為負時，塗層為陽極，稱為陽極（jí）塗層，如鋼鐵上的鍍鋅層；當鍍層相對（duì）於母材的電位為正時，鍍層為陰極，稱為陰極鍍層，如鋼鐵上的鎳鍍層和錫鍍層。

根據塗層的組合，塗層可分為:單（dān）層塗層，如Zn或Cu層；多層（céng）金屬塗層，例如銅-錫/鉻塗層、銅（tóng）/鎳/鉻塗層等。複合塗層，如（rú）Ni-Al₂O₃塗層（céng）、Co-SiC塗層等。

根據鍍層的成分，可分為單一金屬鍍層、合金鍍層（céng）和複合鍍層。

3

電鍍液的基本組（zǔ）成

主要沉積金屬（shǔ）的（de）鹽類（lèi）主要有:單一鹽類，如硫酸銅、硫酸鎳等。複（fù）鹽，如鋅酸鈉、氰鋅（xīn）酸鈉等。

絡合劑與沉積的金屬離（lí）子形成絡合物，主要（yào）作用是改（gǎi）變鍍液的電化學性質，控製金屬（shǔ）離子沉積的電極過程。絡合劑是鍍液的重要組成部分，對鍍層質量有很大（dà）影響。常用的絡合劑包括氰化物、氫氧化物（wù）、焦磷酸鹽、酒石酸鹽、次氮基三乙酸、檸檬酸等。

導電（diàn）鹽（yán）的作用是提高鍍（dù）液的導電性，降低槽端電壓，增加工（gōng）藝電流密度。例如，將Na₂SO₄添加到鍍（dù）鎳溶液中。導電鹽不參與電極反應，酸或堿也可作為導電物質。

在弱酸性或堿性緩衝液中，pH值是一個重要的工藝參數。加入緩衝劑，使鍍液具有自行調節pH值的能（néng）力，從而在鍍液過程中（zhōng）保持pH值穩（wěn）定。為了有效（xiào）地控製酸堿平衡，緩衝（chōng）液必須有足夠的量，一般為30~40g/L，如氯化鉀鍍（dù）鋅溶液中的硼酸。

在（zài）電鍍過程中（zhōng），陽極的金屬離子不斷消耗（hào），大部分鍍（dù）液由可溶性陽極（jí）補充（chōng），使金屬（shǔ）的陰極析出量與陽極溶解量相等，維持鍍液的成（chéng）分平衡。活性劑的加入可以維持陽極活性狀態，不鈍化，保持正常溶解反應。例如（rú），必須在鍍鎳液中加入Cl-以防止鎳陽極鈍化。

特殊添加劑為了改善鍍液的（de）性能和鍍層的質量，往往需要加入一（yī）些特殊的添加劑。其用量較小，通（tōng）常每升隻有幾克，但效果顯（xiǎn）著。這種添加劑有很多種，可（kě）分為:

(1)光亮劑——可以提高塗層的亮度。

(2)晶粒細化劑——能改變塗層的結晶狀態，細化晶粒，使（shǐ）塗（tú）層致密。例如（rú），當添加劑如環氧氯丙烷和胺的縮合物加入（rù）鋅酸鹽鍍鋅溶液中時，鍍層可以從海綿狀變為致密和光亮。

(3)流平劑——能提高鍍液的微觀分散能力，使基底的微觀粗糙表（biǎo）麵變得光滑。

(4)潤濕劑——可以降低金屬與溶液的界麵張（zhāng）力，使塗層更（gèng）好地（dì）附著在基體上，減少針孔。

(5)應力（lì）消除劑——它可以降低塗層的應力。

(6)塗層硬化劑——它可以提高（gāo）塗（tú）層的硬度。

(7)掩蔽劑-能消除（chú）微量雜質的影（yǐng）響（xiǎng）。

4

電鍍工藝的基本步驟

電鍍過（guò）程的基本步驟包括液相傳質、電化學還原和（hé）電結（jié）晶。

5

影響電鍍質量的因素（sù）

(1)鍍液:主鹽、配位（wèi）離子和（hé）附加鹽的溶解度；PH值；析氫；電流參數:電流密度和電流波形；添加劑；溫度；攪拌；金屬:性質、表麵處理（lǐ）狀態；預處理。

(2)電鍍（dù）方法:掛鍍。金（jīn）屬如鎢、鉬、鈦、釩等。不能（néng）單（dān）獨從水溶液（yè）中電鍍的，可（kě）以與鐵族元素(Fe、co、Ni)共沉積形成合金（jīn）；從而獲得單一金屬不能獲得的外觀。

(3)合（hé）金沉積的條件:

①兩種金屬中（zhōng）至少有一種可以從其鹽的水溶液中沉澱出來。

②兩（liǎng）種共沉積金屬的沉積電位必須（xū）非常接近。

02

化學鍍

化學鍍是指一種表麵處理方法（fǎ），利用化學（xué）方法將溶液中的（de）金屬離子（zǐ）還原成金屬並沉積在基體表麵形成塗層。

在化學鍍中，通過化學反應在溶液中直接產（chǎn）生還原金屬離子所需的電子。有三種（zhǒng）方法可以完成這個過程。

數字一（one）

置換沉積

被鍍金屬M(如Fe)的電位比沉積金屬M(如Cu)的電位更負，沉積的（de）金屬離子（zǐ）從溶液中置換到工（gōng）件表麵。這種（zhǒng）方法在工程（chéng）上稱為浸鍍。當金（jīn）屬M完全（quán）被金屬M覆蓋時，沉積停（tíng）止，因此塗層非常薄。將銅浸在鐵中，將汞浸在銅（tóng）中，將鋅浸在鋁中，都是這種置換沉積。浸鍍（dù）法很難獲得實用的鍍層，浸鍍法（fǎ）常作（zuò）為其他鍍種的輔助工藝。

接觸沉積

除了鍍的金屬M和沉積的（de）金屬M，還有第三種金屬（shǔ）M，在含有M離子（zǐ）的溶液中，兩種金屬M-M相連（lián），電子從高電位的M流向低電位的M，使（shǐ）M還原沉積在M上，當接觸金屬M完全被M覆（fù）蓋時，沉積（jī）停止（zhǐ）。當在沒有自動催化（huà）的情（qíng）況下在功能材料上進行化學鍍鎳（niè）時，接觸沉積通常用（yòng）於引發鎳沉積。

3

還原沉積

還原劑氧化釋（shì）放的自由電子將金屬（shǔ）離子還原成金屬原子的過（guò）程稱為還原沉積。

反應方程式如下:

還原劑氧化

Rn+ → 2e- + R(n + 2)+

金（jīn）屬離子還原

M2+ + 2e- → M

工程（chéng）上的化學鍍也主要（yào）是指（zhǐ）這種還原沉積化學鍍。

化學鍍的條件如下:

(1)電鍍液中還原劑的還原電位（wèi）明顯低於沉積金屬的還原電位，這使得金屬可以被還原並沉積在基材上。

(2)配製的鍍液不產（chǎn）生（shēng）自發（fā）分解，隻有與催化表（biǎo）麵接（jiē）觸時，才發生金屬沉積過程（chéng）。

(3)當調節溶液的pH值和（hé）溫度時，可以控製金屬的還原速率，從而調（diào）節鍍覆速率。

(4)還（hái）原析出的金屬也具有催化（huà）活性（xìng），使氧化還原沉積過程得以繼續，塗層（céng）得以不斷增厚。

(5)反應產物不妨礙正常的電鍍過程，即（jí）溶液有足夠的使用壽命。

化學鍍的金屬和合金種類很多，如Ni-P、Ni-B、Cu、Ag、Pd、Sn、In、Pt、Cr和許多其他鈷（gǔ）基合金等。，但化（huà）學鍍鎳和化學鍍銅是最廣（guǎng）泛使用的。化學（xué）鍍層一般具有（yǒu）良（liáng）好的（de）耐腐蝕（shí）性、耐磨性、可焊（hàn）性等（děng）特（tè）殊的電學或磁學性能，因此這種表（biǎo）麵（miàn）處理工藝可以提高材料的表麵性能。

03

熱噴塗技術，熱噴塗焊接（jiē）技術

熱噴塗技術和（hé）熱噴焊技術是利用熱能(如氧-乙炔火焰、電弧（hú）、等離子火（huǒ）焰等)的技術。)將具有特殊性能的塗層材料（liào）熔化後塗覆在工件上形成塗層。可用於製備厚塗層(0.1~10mm)，主要（yào）用於複合材料零件（jiàn）的（de）修補。

一

熱（rè）噴塗技術

(1)熱噴塗技術的原理和特點

塗層材料被各種熱源加熱熔化或半熔化，然後被高速（sù）氣體分（fèn）散細化，高（gāo）速撞擊在基體表麵形成塗層，如圖14所示（shì）。

熱噴塗工藝主要包括:噴塗材料的熔化；噴（pēn）塗材料的霧化；噴塗材料的飛行；粒子的碰撞（zhuàng）和凝固。

(2)塗層（céng）材料

熱噴塗對塗層材料有（yǒu）一定（dìng）要求，需要滿足以下條（tiáo）件:有較寬的液相區，在噴塗溫度下不易分解或揮（huī）發；良好的熱穩定性；使用（yòng）性能好；良好（hǎo）的潤濕性；固體流動性好(粉末)；熱（rè）膨脹係數合（hé）適。塗料根據（jù）噴塗材料的形狀可分為絲（sī）狀和粉狀。

(3)熱噴塗塗層的結合機（jī）理

①機械結合:熔融顆粒撞擊基底表麵（miàn）後，鋪展成一（yī）層扁平的薄液層，嵌（qiàn）在不平整的表（biǎo）麵上，形成機械結合。

(2)冶金結合:塗層與基體表麵之間的擴散（sàn）和焊接稱為冶金結合。

③物理結合:當高速運動的熔融顆粒撞（zhuàng）擊基底表麵時，如果（guǒ）界麵兩側的（de）距離在原子晶格常數範圍內（nèi），顆（kē）粒就會被範（fàn）德華力結合在一起（qǐ）。

(4)塗層的形成過程

(1)將噴塗材料加熱至熔融狀（zhuàng）態；

②噴塗材料被霧化成（chéng）微小的液滴，高速撞擊基體表（biǎo）麵。顆粒撞（zhuàng）擊基底的動能和衝擊變形越大（dà），形成的塗層結合越好。

③熔融（róng）的高速粒子撞擊基材表麵後變形，凝結後形成塗層（céng）。

塗層結構（gòu）由不同（tóng）尺寸的扁平顆粒、未熔化的球形顆粒、夾（jiá）雜物和孔隙組成。氣孔存在的（de）原因:未熔化顆粒的（de）衝擊動能低；噴塗角度不同造成的遮光效果；凝固效應和應（yīng）力釋放。合適的孔隙可以儲存潤滑劑，提（tí）高塗層的隔熱性能，降低內應力，提高塗層的抗熱震性等。但過多的（de）氣孔會破壞塗層的耐腐（fǔ）蝕性，增加塗層表麵的粗（cū）糙度，從而降低塗層（céng）的結合強度、硬度和耐（nài）磨性。因此（cǐ），在塗（tú）層的製備過程中，應嚴格控製孔隙（xì）的數（shù）量。

熱噴焊技術

(1)熱噴焊技術的原理和特（tè）點

熱噴焊技術是一種表麵冶金強化方（fāng）法，利用熱源（yuán）使基體表麵的（de）塗層材料重新熔（róng）化或部分熔化，然後凝結在基體表麵，形成與基體冶金結合的表層，也稱熔焊。與其他表麵處（chù）理工藝相比，熱噴焊獲得的（de）顯微組織致密，冶金缺陷少，與基體結合強（qiáng）度高。但（dàn）所（suǒ）用材料的選擇範圍較窄，基體的變（biàn）形遠大於熱（rè）噴焊，熱噴焊層的成分與（yǔ）原成分不同。

(2)熱噴焊（hàn）技術的分類熱噴焊技術（shù）主要包括火焰噴（pēn）焊、等離子噴焊等。

①火焰噴焊:先在（zài）基體（tǐ）表麵噴塗粉末，再用（yòng）火焰（yàn）直接加熱塗層，使塗層在基體表麵重熔，基體表麵完全潤濕，界麵發生元素互擴散，形成牢固的冶金結合。

火焰噴焊特點:設備簡單；流程簡單；塗層與基體的結合強度高；塗層具有良好的抗衝蝕磨（mó）損性能。

②等離子噴焊:利用（yòng）等離子弧作為熱源加熱基（jī）體，使其表麵形成熔池。同時，噴焊粉（fěn）末材料被送（sòng）入等離子弧，粉末在（zài）弧柱中（zhōng）被預熱，處（chù）於（yú）熔融或半熔融狀態。被火焰流噴入熔池後，充分熔化，排出氣體和熔渣。移開噴槍後，合金熔池凝固，最（zuì）終形成噴焊層。

等離子噴焊（hàn）的特點:生產效率高；噴焊耐火（huǒ）材料，稀釋率低，工藝穩定（dìng）性（xìng）好，易於自（zì）動化，噴焊（hàn）層平整，成分和結構均勻，塗層厚度較大，試驗過程控製準確。

(3)熱噴焊（hàn）技術與（yǔ）熱噴塗技術的區別

①工件表麵溫度:噴塗時工件表麵溫（wēn）度< 250℃；噴焊應（yīng）> 900℃。

②結合狀態（tài）:噴塗（tú）塗層主（zhǔ）要（yào）是機械（xiè）結合；噴塗是冶金結合。

③粉末（mò）材料（liào）:噴焊用自熔性合金粉末。噴粉不限（xiàn）。

④塗層結構:噴（pēn）塗層有孔隙，噴焊層均勻、致密、無空隙。

⑤承載能力:噴焊層能（néng）承受衝擊載荷和較高的接觸應力。

⑥稀釋（shì）率:噴焊層的稀釋率約為5%~10%，噴塗層的稀釋率幾（jǐ）乎為零。

04

化學轉化膜技術

化學轉化（huà）膜技術是通過化學或電化學手段在金屬表麵形成（chéng）穩定的（de）化合（hé）物膜的過程。

化學轉化膜技術主要用於（yú）工件的（de）防腐和（hé）表麵裝飾，也可用於提高工件的耐磨性。它利用某種金屬與（yǔ）某種（zhǒng）腐蝕性液體接（jiē）觸，在一定條件下，兩者發生化學反應。由於濃差極化、正負極化，在金屬表麵（miàn）形成一層附（fù）著力好、不易溶解的腐蝕產物膜。這些膜可以保護基底金屬免受水和其他腐（fǔ）蝕性介質的影響，還可以提高有（yǒu）機塗層的附（fù）著力和抗（kàng）老化性。在生產中，轉化膜技術主要包括磷化處理和氧化處理。

一

金屬表麵磷酸鹽防鏽處理

磷化是將鋼鐵材料放入磷酸鹽溶液中，得到不溶於水的磷化膜的過程。

鋼材磷化處理的工藝流程為:化學除油→熱水洗→冷水洗（xǐ）→磷（lín）化處理→冷水洗→去離子水洗→烘幹。

磷化膜由磷酸鐵、磷酸錳、磷酸鋅等組成。，而且是灰色或（huò）灰黑色的晶體。該膜與（yǔ）基底金屬結合牢固，具有高電阻率。與氧化膜相比，磷化膜（mó）具有更高的耐蝕性（xìng），特別是在（zài）空（kōng）氣、油性和（hé）苯介質（zhì）中，但在（zài）酸、堿、氨、海水和水蒸氣中的耐蝕性較差。

磷化的主要方法有浸漬法（fǎ）、噴塗法和（hé）浸漬與噴塗相結合的方法。磷化（huà）按溶（róng）液（yè）溫度可分為常溫磷化、中溫（wēn）磷化和高溫磷化。

浸（jìn）泡法適用於高溫、中溫、低溫磷化工藝。它可（kě）以處理任何形狀的工件（jiàn），獲得不同厚度（dù）的磷（lín）化膜。設備簡單，質量穩（wěn）定。厚磷化膜主要用於工件的防腐（fǔ）處理和增強表麵的減摩性。噴塗法適用於中溫、低溫磷化工藝，可處理大型工件，如汽車外殼、冰箱、洗衣機等大型工件作為油漆（qī）底漆和冷變形處理。這種方法（fǎ）處理時（shí）間（jiān）短，成膜速度快，但隻能得到較薄和中等厚度的（de）磷化（huà）膜。

氧化處理

(1)鋼的（de）氧化處（chù）理（lǐ）

鋼（gāng）鐵（tiě）的氧化處理，又稱發藍，是將鋼鐵工件放入某種氧化溶液中，在其表麵形成一層致密牢固的Fe3O4膜，厚度約為0.5~1.5μm的一種工藝方法。藍色通常不影（yǐng）響零件的精度，常用（yòng）於工具、儀器的裝飾保護。能提高工件表麵（miàn）的耐腐蝕（shí）性，有助於消除工件的（de）殘餘應力，減少變（biàn）形，使表麵光亮（liàng）美觀。堿性法是最廣泛使用的氧化方法。

鋼鐵氧化處理所用溶液的（de）成分和工藝條件可根據工件的材料和性能要求確定。通常，溶液由500克/升氫氧化鈉、200克/升亞硝酸（suān）鈉和（hé）餘量的水組成（chéng），當溶液溫度約為140℃時，處理6 ~ 9分鍾。

(2)鋁（lǚ）和鋁合金的氧化處理

①陽極氧化法

陽極氧化是將工件置於電解（jiě）液中，然（rán）後通電（diàn），獲得硬（yìng）度高、吸附力強的氧化膜的（de）方法（fǎ）。常用的電解液有15% ~ 20%的硫酸、3% ~ 10%的（de）鉻酸和2% ~ 10%的草酸。陽極氧（yǎng）化膜可在熱水中煮沸，使氧化膜變成水合氧（yǎng）化鋁，因（yīn）體積（jī）膨脹而閉合。也可以用重鉻酸鉀溶液封閉，防止（zhǐ）腐蝕性溶液通過氧化膜的晶隙腐蝕（shí）基（jī）板。

②化學氧化法

化學氧化（huà）是將工件放入弱堿或弱酸溶液（yè）中，獲得與（yǔ）基體鋁結合牢固的氧化膜的方（fāng）法。主要用於提高工件的耐腐蝕性和耐磨（mó）性，也（yě）用於鋁及鋁合金的表麵裝飾，如建築用防鏽鋁（lǚ）、標誌用（yòng）裝飾膜等。

05

氣相沉積技術

氣相沉積技術(Vapor deposition technology)是指通過物理或化學方法將含（hán）有沉積元素的蒸氣（qì）物質沉積（jī）在材料表麵形成薄膜的一（yī）種（zhǒng）新型塗層技（jì）術（shù）。根據沉積過程的原理，氣相沉積技術可分為物理氣相沉積(PVD)和化（huà）學氣相沉（chén）積(CVD)。

一

物理氣相沉（chén）積

物理氣相沉積(Physical vapor deposition，PVD)是指（zhǐ）在真空條（tiáo）件下，通過物理方法將材料汽化成原子、分（fèn）子或電離（lí）成離子，通過（guò）氣相過程在材料表麵沉積薄膜的技（jì）術。物理沉積技（jì）術主要包括真空蒸發、濺射和離子鍍三種基（jī）本方法。

真空蒸發是將成膜物質蒸發或（huò）升華沉積在工件表麵（miàn）形成薄（báo）膜的（de）方（fāng）法。根據蒸發材料的熔點，有多種加熱方式，如（rú）電（diàn）阻加熱、電子束加熱、激（jī）光加熱（rè）等。真空蒸發的特點（diǎn）是（shì）設備、工藝和操作簡單。但由於汽化（huà）顆粒動（dòng）能較低，塗層與基體的結合力較弱，塗層疏鬆，因（yīn）此抗衝擊性能和（hé）耐磨性不高。

濺射是在真空中用輝光放電電離氬（yà）氣，產生的氬離子在電場作用下加速轟擊（jī）陰極，濺射出來的顆粒沉積在工件表麵形成薄膜的一種方法。其優點（diǎn）是氣（qì）化粒子動能（néng）大，適用材料(包括基體材料和塗層材料)範圍廣，鍍（dù）覆能力好，但沉積速度慢，設備昂（áng）貴。

離子鍍是在真空中利用氣體放電技術將蒸發的（de）原子電離成離子，與大量高能中性粒子一起沉積在工件表麵的方法。其特點是鍍層質量高、附著力強、鍍覆能（néng）力（lì）好、沉積速度快，但也存在設備複雜、價格（gé）昂貴等缺點。

物理氣相沉積適用的基體材料（liào）和（hé）薄（báo）膜材料範圍廣；工藝（yì）簡單，節省材料，無汙染；所得（dé）薄膜具有附著力強、膜厚（hòu）均（jun1）勻、致密、針（zhēn）孔少（shǎo）等（děng）優點。廣（guǎng）泛應用於（yú）機械、航天、電子、光（guāng）學、輕工（gōng）等領（lǐng）域，製備耐（nài）磨、耐腐（fǔ）蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、潤滑、超（chāo）導薄（báo）膜。

化學汽相澱積

化學氣相沉積(CVD)是（shì）指在一（yī）定溫（wēn）度下，通過混合（hé）氣體與基底的相互作用，在基（jī）底表麵（miàn）形成金屬或化合物薄膜的方法。

化（huà）學氣相沉積的（de）特（tè）點是:沉積物種類繁多，可分為沉（chén）積金屬、半導體元素、碳化物、氮化物、硼化物等。並且（qiě）可以在較大範圍內控製薄膜的組成和晶型；能均（jun1）勻塗（tú）覆複雜幾（jǐ）何形狀（zhuàng）的零件；沉（chén）積速度快，膜層致密，與基底結合牢固；易於實現批量生產。

化學氣相（xiàng）沉積(CVD)薄膜因其優異的耐磨（mó）性、耐（nài）腐蝕性、耐熱性、電學和光學性能，被（bèi）廣泛（fàn）應用於機械製造、航空航（háng）天、交通運輸、煤化工（gōng）等工業領域。